采用了最簡單的局部光照模型，用opengl的光照方程：I = Ia * Ka + Id * Kd * (L dot N)  + Is * Ks * pow((R dot V),n)
    I，L為光照強(qiáng)度和材質(zhì)參數(shù)，L，N，R，V分別是光線反方向，法線，視線反方向，反射光線方向，n為鏡面反射因子，這條公式只考慮了環(huán)境光(ambient)，鏡面光(specularity)，散射光(diffuse)的影響，實(shí)際上還有發(fā)射光(emission)，不過對(duì)于局部光照模型來說，這種發(fā)射光沒多大意義，稍微修正了下散射光部分，把光線和法線的點(diǎn)積值映射到了(0.0f,1.0f)范圍，讓背光部分不至于一團(tuán)黑，公式變?yōu)椋?br>  I = Ia * Ka + Id * Kd * (L dot N + 1.0) * 0.5 + Is * Ks * pow((R dot V),n)

 點(diǎn)光源效果：

 
  
 另外把紋理和zbuffer也加上了，紋理采用的是仿射紋理映射，修正紋理映射涉及到浮點(diǎn)的精度問題，在z距離變化比較大的時(shí)候紋理跳躍比較嚴(yán)重，暫時(shí)還沒想到一個(gè)合適的解決辦法，紋理尋址方式固定范圍，不做越界尋址處理，支持雙線性紋理過濾，目前紋理圖片格式完成了BMP圖片的載入

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