最近做了兩個material，一個是OffsetMapping，這個大家應(yīng)該都很熟悉了，另一個是ReliefMapping，其實(shí)就只是OffsetMapping的精確版本，運(yùn)用光線追蹤計(jì)算出近似的交點(diǎn)而已。

OffsetMapping


ReliefMapping

比較結(jié)果：(上面的技術(shù)分別簡稱OM,RM)
效率。OM很快，因?yàn)镺M計(jì)算紋理偏移只是簡單的把當(dāng)前點(diǎn)的高度乘以觀察方向就夠了，但是RM不是，RM需要在一個循環(huán)內(nèi)逐個高度的測試，看所測試的高度是否接近相交點(diǎn)的高度。OM只需要兩次紋理尋址，而RM需要6次（效果一般般）以上。由此使得RM的效率實(shí)在不能恭維。
視覺效果。上圖兩者使用的細(xì)節(jié)高度是0.05，咋一看，似乎OM的效果比RM還有凸出感，但是事實(shí)上，磚塊之間的間隙在OM圖中實(shí)在太寬闊了點(diǎn)（實(shí)際不是這樣子的），所以它顯得比較凸出。RM的效果肯定更好。
細(xì)節(jié)上的最大高度。OM的最大高度很小，且一旦超過了那個值，渲染效果就很古怪了，RM要比它大的太多了。而且RM的優(yōu)勢就是，越大的細(xì)節(jié)高度，就越能體現(xiàn)凸出感，這點(diǎn)是OM所沒有的。

總結(jié)：
優(yōu)化。如果用RM，一定要有效率，那么循環(huán)次數(shù)就要盡可能的小，但是越大的步長，所能支持的細(xì)節(jié)高度就越小，所以，盡可能根據(jù)細(xì)節(jié)高度選擇最小的循環(huán)次數(shù)。
如何計(jì)算細(xì)節(jié)最大高度。計(jì)算紋理偏移不能僅僅是高度圖上的高度乘以觀察方向就可以的，這樣做會讓畫面很亂，一定還要乘以一個縮放比例，其具體意義就是細(xì)節(jié)高度。舉個例子說明吧。在我的渲染中，墻壁的邊長是50cm，映射的紋理坐標(biāo)是[0,1]，比值50:1。現(xiàn)在希望墻壁那些該凸出的地方的最大凸出高度是3cm，那么映射到紋理中是x，比值3:x。50:1 = 3:x，計(jì)算出x=0.06。
shader中的整數(shù)和浮點(diǎn)數(shù)。被這個細(xì)節(jié)玩弄了好久。1/9＝0，1.0/9.0 = 0.xxx。之前在RM的循環(huán)中每次步長的增值是1/9，結(jié)果一直沒做好渲染，后來認(rèn)為是整數(shù)除法和浮點(diǎn)數(shù)除法的區(qū)別之后，才更正。唉，一直以為shader是完全浮點(diǎn)數(shù)指令集的。

PS：RM是可以做自陰影效果的，不過開銷。。。。別指望了。