最近做了兩個material，一個是OffsetMapping，這個大家應該都很熟悉了，另一個是ReliefMapping，其實就只是OffsetMapping的精確版本，運用光線追蹤計算出近似的交點而已。

OffsetMapping


ReliefMapping

比較結果：(上面的技術分別簡稱OM,RM)
效率。OM很快，因為OM計算紋理偏移只是簡單的把當前點的高度乘以觀察方向就夠了，但是RM不是，RM需要在一個循環內逐個高度的測試，看所測試的高度是否接近相交點的高度。OM只需要兩次紋理尋址，而RM需要6次（效果一般般）以上。由此使得RM的效率實在不能恭維。
視覺效果。上圖兩者使用的細節高度是0.05，咋一看，似乎OM的效果比RM還有凸出感，但是事實上，磚塊之間的間隙在OM圖中實在太寬闊了點（實際不是這樣子的），所以它顯得比較凸出。RM的效果肯定更好。
細節上的最大高度。OM的最大高度很小，且一旦超過了那個值，渲染效果就很古怪了，RM要比它大的太多了。而且RM的優勢就是，越大的細節高度，就越能體現凸出感，這點是OM所沒有的。

總結：
優化。如果用RM，一定要有效率，那么循環次數就要盡可能的小，但是越大的步長，所能支持的細節高度就越小，所以，盡可能根據細節高度選擇最小的循環次數。
如何計算細節最大高度。計算紋理偏移不能僅僅是高度圖上的高度乘以觀察方向就可以的，這樣做會讓畫面很亂，一定還要乘以一個縮放比例，其具體意義就是細節高度。舉個例子說明吧。在我的渲染中，墻壁的邊長是50cm，映射的紋理坐標是[0,1]，比值50:1。現在希望墻壁那些該凸出的地方的最大凸出高度是3cm，那么映射到紋理中是x，比值3:x。50:1 = 3:x，計算出x=0.06。
shader中的整數和浮點數。被這個細節玩弄了好久。1/9＝0，1.0/9.0 = 0.xxx。之前在RM的循環中每次步長的增值是1/9，結果一直沒做好渲染，后來認為是整數除法和浮點數除法的區別之后，才更正。唉，一直以為shader是完全浮點數指令集的。

PS：RM是可以做自陰影效果的，不過開銷。。。。別指望了。